真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級表面處理。

系統(tǒng)原理

通過電子槍發(fā)射高壓電子轟擊坩堝中的待鍍靶材，使其在高真空下蒸發(fā)并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。

系統(tǒng)配置

• 自動化控制器: e-Control PLC，是控制系統(tǒng)的核心硬件平臺。
• 人機界面硬件: TPC1503工業(yè)級15寸觸摸式平板電腦，穩(wěn)定可靠。
• 人機界面軟件: NETSCADA組態(tài)軟件開發(fā)平臺，提供真空鍍膜機的控制和監(jiān)視。
  

系統(tǒng)評價:

• 提供多達(dá)99層一次成膜支援；
• 自動倒幕翻轉(zhuǎn)，可實現(xiàn)雙面鍍膜；
• 支持Excle導(dǎo)入靶材、設(shè)備參數(shù)、工藝參數(shù)等；
• 支持電子槍像素點數(shù)量自定義控制，實現(xiàn)靶材的無縫隙加熱控制；
• 針對不同加熱段，采用不同蒸鍍模式，保證熔料均溫的同時，保證熔料效率；
• 一鍵式啟動，從啟動到生產(chǎn)結(jié)束只需輕點一下鼠標(biāo)，各種生產(chǎn)流程自動完成；
• 批號式數(shù)據(jù)管理方案，實時自動保存生產(chǎn)信息，對生產(chǎn)數(shù)據(jù)有據(jù)可查；

網(wǎng)絡(luò)化方案，提供遠(yuǎn)程組網(wǎng)端口，輕松實現(xiàn)遠(yuǎn)程多系統(tǒng)集中控制